盛美上海等4家公司共同申请RF连接器相关专利,RF连接器套喷淋头轴顶,拆装灵活且传输稳定
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2026-07-04 09:26:11
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7月4日消息,国家知识产权局信息显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司、盛美半导体设备韩国有限公司、清芯科技有限公司、盛美半导体设备(成都)有限公司申请一项名为“RF连接器”的专利。申请公布号为CN122338464A,申请号为CN202510013836.3,申请公布日期为2026年7月3日,申请日期为2025年1月3日,发明人戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊,专利代理机构上海专利商标事务所有限公司,专利代理师杜娟,分类号H01R13/02、H01R13/40、H01R24/40。

专利摘要显示,本申请提出的RF连接器,包括:端子,为圆筒状,用于套设在喷淋头的轴的顶端;弹片,多个弹片沿周向排布在所述端子的内侧,所述弹片用于与所述轴的顶端导电接触;线缆,所述线缆的一端与所述端子连接,另一端用于与RF电源连接;其中,所述端子和弹片均由导电材料制成。本申请通过端子和弹片将RF连接器套设在喷淋头的轴的顶端,相对于铜排和螺钉的固定方式,更加灵活、易于拆卸,而且RF传输更加稳定。

天眼查数据显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司成立日期2005年5月17日,法定代表人HUI WANG,所属行业为专用设备制造业,企业规模为大型,注册资本48016.4789万人民币,实缴资本48016.4789万人民币,注册地址为中国(上海)自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目183次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息733条,拥有行政许可32个。

盛美半导体设备(上海)股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1薄膜沉积装置及沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610011040.92026-01-06CN122039027A2026-05-15朱志君、赵伟、纪海远
2检测工装、射频特性检测装置及等离子体装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610001596.X2026-01-04CN122063350A2026-05-19罗雁燊、陈更明、成康、朱志君、张山
3基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696240.42025-11-19CN121149062A2025-12-16李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
4一种传感器校准装置及基板清洗机发明专利公布CN202511565215.22025-10-30CN121540106A2026-02-17陈远、赵运翔、何西登
5基板处理装置发明专利授权CN202511376375.22025-09-25CN120878605B2026-04-17苏政、贾社娜、邓新平
6处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
7供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
8排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
9单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
10薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
11基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
12密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
13双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
14晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
15化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
16炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
17进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
18基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
19晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
20喷淋头发明专利公布CN202510013814.72025-01-03CN122327194A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
21喷淋头发明专利公布CN202510013820.22025-01-03CN122327195A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
22RF连接器发明专利公布CN202510013836.32025-01-03CN122338464A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
23清洗设备及清洗方法发明专利公布CN202510007233.22025-01-02CN122341097A2026-07-03麻森朋、杨宏超
24晶圆处理方法和装置发明专利公布CN202510010070.32025-01-02CN122341090A2026-07-03殷永飞、张晓燕、初振明、程龙跃、范心海、张忠龙
25晶圆对中方法发明专利公布CN202510007202.72025-01-02CN122341140A2026-07-03贾福金、王文军、张晓燕
26半导体设备发明专利公布CN202411934078.02024-12-25CN122318761A2026-06-30张忠龙、初振明、张晓燕
27基板处理设备及基板处理方法发明专利公布CN202411917716.82024-12-23CN122294862A2026-06-26徐文华、刘阳、胡海波、张晓燕
28用于晶圆CMP后清洗的喷头固件及清洗方法发明专利公布CN202411853646.42024-12-13CN122248988A2026-06-19王银、周飞、蒋寅魁、张佳妮、仰庶、张晓燕
29电镀装置发明专利公布CN202411835091.02024-12-12CN122189807A2026-06-12任正博、金一诺、石轶、贺宇、左经之
30翻转装置及基板处理设备发明专利公布CN202411835174.X2024-12-12CN122227915A2026-06-16李德鑫、李承熙、沈旻燮、焦欣欣、张少帅、王俊、吴均
31基板涂覆设备发明专利公布CN202411824707.42024-12-11CN122194571A2026-06-12吴均、杨仁政、程成、徐飞、吴雷
32面板金属沉积及减薄设备发明专利公布CN202411814873.62024-12-10CN122189813A2026-06-12金一诺、杨宏超、王坚
33基板电镀装置、电镀设备及基板电镀方法发明专利公布CN202411806689.72024-12-09CN122169189A2026-06-09朱志君、王坚
34基片处理装置发明专利公布CN202411806716.02024-12-09CN122206198A2026-06-12李昱、王文军、张晓燕
35晶圆刻蚀方法发明专利公布CN202411796919.62024-12-06CN122206188A2026-06-12陈子山、程龙跃、初振明、张晓燕
36方形基板处理方法和装置发明专利公布CN202411777413.02024-12-04CN122161398A2026-06-05吴勐、王坚、贾照伟、金一诺
37泄漏检测系统及清洗设备发明专利公布CN202411766935.02024-12-03CN122142013A2026-06-05路添竣、邓新平
38喷嘴组件及基板处理装置发明专利公布CN202411753675.32024-11-29CN122098874A2026-05-29徐飞、袁祎、吴均、程成、王晖、李康植
39机械手、基片处理设备及机械手的故障检测方法发明专利公布CN202411745347.92024-11-29CN122100059A2026-05-29刘权、贾社娜、张大海
40用于喷淋装置的流量控制方法、设备及介质发明专利公布CN202411745318.22024-11-29CN122124936A2026-06-02刘昊坤、庞昊、陈福平、王晖
41半导体设备发明专利公布CN202411717352.92024-11-26CN122121581A2026-05-29邓新平、张健、路添竣
42基片传输系统静电消除装置及方法发明专利公布CN202411715143.02024-11-26CN122121029A2026-05-29杨超繁、贾社娜、张大海、王晖
43研磨头及研磨装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411692016.32024-11-22CN122071104A2026-05-22王晖、杨宏超、王坚、金一诺、陈柏霖
44研磨装置及研磨设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411692115.12024-11-22CN122077511A2026-05-26王晖、杨宏超、王坚、金一诺、陈柏霖
45封闭组件和电镀设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411667423.92024-11-20CN122071814A2026-05-22吉来、汪若飞、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖
46基板清洗装置及基板清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411580035.72024-11-06CN122069957A2026-05-19王晖、张晓燕、初振明、徐时座、单昌锋、李亚洲、周梓鑫
47一种清洗装置和清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411572087.X2024-11-05CN121988564A2026-05-08王晖、邓新平、张峰榕
48喷淋装置及基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411563876.72024-11-04CN122028672A2026-05-12陈福平、庞昊、张峰榕、王晖
49热板降温装置及基板热处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411558781.62024-11-01CN121995700A2026-05-08张剑松、王文军、王晖、李康植
50衬底处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411558672.42024-11-01CN122028662A2026-05-12周世豪、张晓燕

天眼查数据显示,盛美半导体设备(成都)有限公司成立日期2024年12月24日,法定代表人王坚,所属行业为专用设备制造业,企业规模为小型,注册资本1410万人民币,实缴资本1410万人民币,注册地址为成都高新区天全路177号2号楼。盛美半导体设备(成都)有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目3次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息6条,拥有行政许可1个。

盛美半导体设备(成都)有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1薄膜沉积装置及沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610011040.92026-01-06CN122039027A2026-05-15朱志君、赵伟、纪海远
2检测工装、射频特性检测装置及等离子体装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610001596.X2026-01-04CN122063350A2026-05-19罗雁燊、陈更明、成康、朱志君、张山
3薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
4喷淋头发明专利公布CN202510013814.72025-01-03CN122327194A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
5喷淋头发明专利公布CN202510013820.22025-01-03CN122327195A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
6RF连接器发明专利公布CN202510013836.32025-01-03CN122338464A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊

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