中欣晶圆申请晶体缺陷检测相关专利，热氧化处理实现硅片不可见缺陷间接检测_财经一览

中欣晶圆申请晶体缺陷检测相关专利，热氧化处理实现硅片不可见缺陷间接检测

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2026-04-12 10:11:08

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4月12日消息，国家知识产权局信息显示，杭州中欣晶圆半导体股份有限公司申请一项名为“检测晶体微小缺陷的方法”的专利。申请公布号为CN121830714A，申请号为CN202512046375.2，申请公布日期为2026年4月10日，申请日期为2025年12月31日，发明人何珍碧，专利代理机构杭州融方专利代理事务所（普通合伙），专利代理师沈相权，分类号G01N21/95、G01N1/44、G01N1/34。

专利摘要显示，本发明涉及一种检测晶体微小缺陷的方法，所属半导体材料制造与检测技术领域，包括如下操作步骤：第一步：原材料选取与预处理。第二步：升温阶段，将处理后的硅片放入热氧化炉中。第三步：高温氧化阶段，向炉内通入湿氧，在1100℃的高温下恒温保持2小时。第四步：降温阶段，氧化结束后，开始降温。第五步：对于存在缺陷的硅片，在界面压应力的作用下，缺陷部位容易发生应力集中，导致缺陷发生变形、增大或诱发新的位错滑移，从而在宏观上表现为表面颗粒大小和数量的增加。经过热氧化处理后，其尺寸增大且表面特征更加明显，使得技术人员能够通过普通的表面观测手段即可识别出硅片原有的晶体缺陷质量，实现了对不可见微观缺陷的间接检测。

天眼查数据显示，杭州中欣晶圆半导体股份有限公司成立日期2017年9月28日，法定代表人贺贤汉，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为大型，注册资本523559.0107万人民币，实缴资本503225.6776万人民币，注册地址为浙江省杭州市钱塘区东垦路888号。杭州中欣晶圆半导体股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目42次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息436条，拥有行政许可22个。

杭州中欣晶圆半导体股份有限公司近期专利情况如下：

序号	专利名称	专利类型	法律状态	申请号	申请日期	公开(公告)号	公开(公告)日期	发明人
1	CMP设备的研磨液精准供给系统及其控制方法	发明专利	公布	CN202610128880.3	2026-01-30	CN121733440A	2026-03-27	刘肖
2	改善最终外观目检台聚光灯消耗的结构及其降本增效方法	发明专利	公布	CN202610066824.1	2026-01-19	CN121782552A	2026-04-03	李林秀
3	针对成品晶圆的包装盒可视检测系统及码放精度测量方法	发明专利	公布	CN202610021292.X	2026-01-08	CN121829314A	2026-04-10	王伟东
4	一种修整8英寸硅片抛光站陶瓷盘的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202512037297.X	2025-12-31	CN121696834A	2026-03-20	张森阳
5	检测晶体微小缺陷的方法	发明专利	公布	CN202512046375.2	2025-12-31	CN121830714A	2026-04-10	何珍碧
6	基于晶圆倒角机的缓冲吸附机械手系统及操作方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202512007568.7	2025-12-29	CN121696852A	2026-03-20	杜书红
7	一种检测亲水性硅片表面金属的ICP-MS进样装置及工艺	发明专利	公布	CN202511965099.3	2025-12-24	CN121805386A	2026-04-07	苏慧云、戴潮
8	针对晶圆片盒内金属含量的防污染检测系统及快速检测方法	发明专利	公布	CN202511941811.6	2025-12-22	CN121678728A	2026-03-17	苏慧云、周桂丽、戴潮
9	一种硅单晶粗片的轮廓参数检测系统及工艺	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511927715.6	2025-12-19	CN121612895A	2026-03-06	周卫宏
10	基于边缘区域在线监测与动态压力补偿的抛光方法	发明专利	公布	CN202511886277.3	2025-12-15	CN121552237A	2026-02-24	徐姜炜
11	采用液相离子色谱仪分析硅片表面氯离子的前处理方法	发明专利	公布	CN202511886281.X	2025-12-15	CN121805489A	2026-04-07	周桂丽、戴潮、代治立、周卫宏
12	针对晶圆倒角的晶圆边缘加工系统及倒角工艺	发明专利	公布	CN202511865282.6	2025-12-11	CN121552186A	2026-02-24	黄炜霞
13	一种片盒包装的装载、检查系统及安装方法	发明专利	公布	CN202511846572.6	2025-12-09	CN121553472A	2026-02-24	王斌
14	硅片V型槽抛光中心矫正的加工方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511816359.0	2025-12-04	CN121572186A	2026-02-27	吴福壮
15	预防供液管路结晶的冲洗装置及其控制方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511773551.6	2025-11-28	CN121403247A	2026-01-27	毛国领
16	铬酸回收装置及其控制方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511773554.X	2025-11-28	CN121700174A	2026-03-20	孙贵昌、方一栋
17	降低EPI过程应力突变造成长膜畸变量的系统及工艺	发明专利	公布	CN202511762935.8	2025-11-27	CN121752000A	2026-03-27	李皓
18	用于高电阻硅片的在线式光学干涉平坦度测量方法	发明专利	公布	CN202511730214.9	2025-11-24	CN121677620A	2026-03-17	雷凇
19	APCVD背面污迹工艺的优化方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511730212.X	2025-11-24	CN121700360A	2026-03-20	吕进午
20	基于化学机械协同与多步应力管理的半导体硅片减薄工艺	发明专利	公布	CN202511681766.5	2025-11-17	CN121670511A	2026-03-17	何航党、高洪涛
21	外延后膜厚及滑移线的改善方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511681767.X	2025-11-17	CN121712314A	2026-03-20	何珍碧
22	基于12寸APCVD托盘的三次降温系统及积载清洗方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511681610.7	2025-11-17	CN121700371A	2026-03-20	吕进午
23	硅片少子寿命的RTP前处理方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511681768.4	2025-11-17	CN121712321A	2026-03-20	罗国菁、李涛
24	一种半导体双面研磨机纳米级复合研磨粉及研磨液	发明专利	公布	CN202511658494.7	2025-11-13	CN121780129A	2026-04-03	何航党、高洪涛
25	基于调整LP成膜温度的CVD工艺优化晶圆翘曲的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511652781.7	2025-11-12	CN121712262A	2026-03-20	刘文涛、王骞玮
26	基于槽式清洗消除PIN印的硅片加工方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511652782.1	2025-11-12	CN121712282A	2026-03-20	郭天天
27	一种Ar炉氩气与氩氢混气工艺的切换设备及控制方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511626278.4	2025-11-07	CN121700151A	2026-03-20	平铁卫
28	改善双面抛光加工硅片厚度形貌倾斜的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511617289.6	2025-11-06	CN121374420A	2026-01-23	姚胜平
29	硅片小抛头的整组更换结构及其操作方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511617287.7	2025-11-06	CN121424229A	2026-01-30	陈彬
30	一种分析炉管清洗槽金属污染水平的检测方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511581737.1	2025-10-31	CN121298370A	2026-01-09	周桂丽、赵祥峰、戴潮、代治立、周卫宏
31	一种使用平板氧化铝进行半导体级硅片磨片的研磨液及研磨方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511586194.2	2025-10-31	CN121427493A	2026-01-30	高威
32	一种基于硅烷-氮气分阶断沉积的LPCVD均一性优化工艺	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511586213.1	2025-10-31	CN121428520A	2026-01-30	赵祥峰
33	一种基于APCVD工艺的硅片倒角部位LTO层去除方法和系统	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511586203.8	2025-10-31	CN121443043A	2026-01-30	高威
34	流量校准的工具及其使用方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511577872.9	2025-10-31	CN121521229A	2026-02-13	王方立
35	检测设备相机的散热系统及其运行方法	发明专利	公布	CN202511577875.2	2025-10-31	CN121559800A	2026-02-24	李君
36	基于红外线阵扫描的倒角机崩边实时检测装置及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511567859.5	2025-10-30	CN121104823A	2025-12-12	杜书红
37	一种提升硅片背面去蜡能力的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511563995.7	2025-10-30	CN121487521A	2026-02-06	朱墨涵、王骞玮
38	基于CMP工序用的研磨液添加系统及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511549473.1	2025-10-28	CN121223690A	2025-12-30	杨石平
39	一种用于单晶硅片的高效低损伤研磨液及其制备方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511552895.4	2025-10-28	CN121319792A	2026-01-13	黄炜霞
40	用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511529816.8	2025-10-24	CN121575367A	2026-02-27	黄明洋、李鹏
41	一种针对磨片定盘中沟槽研磨粉的柔性清洁系统及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511520729.6	2025-10-23	CN121374419A	2026-01-23	苏鹏辉
42	防止晶圆在高速旋转中裂片的气浮卡盘装置及其控制方法	发明专利	公布	CN202511488822.3	2025-10-17	CN121548270A	2026-02-17	方涛
43	用于解离硅片的样条装置及其控制方法	发明专利	公布	CN202511488820.4	2025-10-17	CN121535855A	2026-02-17	王烨华
44	基于自动化监控的单面抛光机台抛头寿命管理方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511407269.6	2025-09-29	CN121290170A	2026-01-09	郭天天
45	一种基于差异化修整抛光布工艺优化方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511407270.9	2025-09-29	CN121374293A	2026-01-23	姚胜平
46	改善LTO膜外观良率的集预处理洗净和存储一体的可靠性工艺	发明专利	公布	CN202511410897.X	2025-09-29	CN121568529A	2026-02-24	刘文涛
47	硅片在减薄时产品背面污迹的清洗方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511399762.8	2025-09-28	CN121310868A	2026-01-09	方一栋、缪燃、唐鸿钦
48	改善硅片局部平坦度的抛光工艺	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511398863.3	2025-09-28	CN121468288A	2026-02-06	李赛武
49	硅片研磨设备的定盘清洁与维护方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511344562.2	2025-09-19	CN121156902A	2025-12-19	王小明
50	SRP过度区宽度的计算方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511344565.6	2025-09-19	CN121463785A	2026-02-03	吴瑶

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