中微公司申请电源馈入组件相关专利，树状弧形结构电源馈入组件，避让空间且馈电均匀_财经一览

中微公司申请电源馈入组件相关专利，树状弧形结构电源馈入组件，避让空间且馈电均匀

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2026-03-12 09:22:58

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3月12日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种电源馈入组件、罩体、上电极装置及溅射沉积设备”的专利。申请公布号为CN121629343A，申请号为CN202411266925.0，申请公布日期为2026年3月10日，申请日期为2024年9月10日，发明人李兆晟、连增迪、吴狄、刘身健、张旭彤、苏宜龙、周子琛，专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司，专利代理师徐雯琼、张静洁，分类号C23C14/35、H01J37/34。

专利摘要显示，本发明公开了一种电源馈入组件、罩体、上电极装置及溅射沉积设备。电源馈入组件，包括输入端和环，输入端用于电连接电源，环用于电连接靶材，以及自输入端至环形成的轴向多层环形树状导体结构，树状导体结构自输入端逐层分支出多个末端，末端电连接至环，末端在环上周向均匀分布，且自输入端至每一个末端的阻抗相等。本发明通过树状弧形电连接结构形成电源馈入组件，使电源馈入组件可由边缘区域电连接电源后，经树状弧形电连接结构沿边缘区域均匀分散至馈入环上，从而避让出中部区域的磁控管驱动结构安装空间，并保证了电源馈入均匀性。

天眼查数据显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2004年5月31日，法定代表人尹志尧，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本62614.5307万人民币，实缴资本62236.3735万人民币，注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号。中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目78次，财产线索方面有商标信息109条，专利信息1654条，拥有行政许可77个。

中微半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号	专利名称	专利类型	法律状态	申请号	申请日期	公开(公告)号	公开(公告)日期	发明人
1	一种工艺顶盖及气相沉积设备	实用新型	授权	CN202521979639.9	2025-09-15	CN223458392U	2025-10-21	刘从灵、谢振南、郑振宇、柴浩瑞、姜勇、郭世平
2	反应腔、高深宽比结构及其形成方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510550377.2	2025-04-28	CN120072612B	2025-07-25	尹志尧、徐伟娜、张一川、张凯、丛海、刘志强
3	基片托盘	外观专利	授权	CN202530230568.1	2025-04-25	CN309730273S	2026-01-09	陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开
4	基片托盘	外观专利	授权	CN202530230569.6	2025-04-25	CN309730274S	2026-01-09	陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开
5	一种气相沉积设备及半导体处理系统	发明专利	公布	CN202510444720.5	2025-04-09	CN120830094A	2025-10-24	尹志尧、倪图强、丛海、请求不公布姓名、杨宽、张海龙、朱荣帅
6	一种掩膜结构形成方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202510293724.8	2025-03-12	CN121496378A	2026-02-10	罗彬、赖锋源、张海龙、尹志尧、丛海
7	掩膜结构及其形成方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202510293826.X	2025-03-12	CN121496322A	2026-02-10	罗彬、赖锋源、刘健钢、尹志尧、丛海
8	一种掩膜结构及其制备方法、半导体设备	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202510293764.2	2025-03-12	CN121496321A	2026-02-10	尹志尧、丛海、罗彬、赖锋源、张海龙
9	一种环组件及成膜装置	实用新型	授权	CN202520251908.3	2025-02-17	CN223780392U	2026-01-09	郭世平、姜勇、郑振宇、丁伟
10	一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510165658.6	2025-02-14	CN119673741B	2025-05-30	叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟
11	一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510165658.6	2025-02-14	CN119673741B	2025-05-30	叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟
12	一种半导体加工设备及其控制方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510147729.X	2025-02-10	CN119601451B	2025-05-09	李博睿、卢明、倪图强
13	一种阻抗匹配器、射频组件与等离子体处理设备	实用新型	授权	CN202520210442.2	2025-02-10	CN222637222U	2025-03-18	卢明、李博睿、倪图强
14	一种半导体加工设备及其控制方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510147729.X	2025-02-10	CN119601451B	2025-05-09	李博睿、卢明、倪图强
15	一种化学气相沉积装置	实用新型	授权	CN202520172387.2	2025-01-24	CN223780352U	2026-01-09	杜冰洁、路今、姜银鑫
16	一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510098695.X	2025-01-21	CN119517722B	2025-05-13	田宁、叶如彬
17	一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510098695.X	2025-01-21	CN119517722B	2025-05-13	田宁、叶如彬
18	一种隔离结构及化学气相沉积装置	实用新型	授权	CN202520123428.9	2025-01-17	CN223780362U	2026-01-09	黄稳、李勇志、姜勇、陆顺开
19	一种化学气相沉积装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202510073813.1	2025-01-16	CN119932527A	2025-05-06	张辉、姜银鑫、姜勇
20	缓冲装置	实用新型	授权	CN202520107111.6	2025-01-16	CN223780359U	2026-01-09	杨闰清、徐灿阳、陈冬、许灿、何伟业
21	一种化学气相沉积装置	实用新型	授权	CN202520086318.X	2025-01-14	CN223780351U	2026-01-09	陆顺开、周子琛、张辉
22	一种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411976013.2	2024-12-31	CN119374033A	2025-01-28	徐志鹏、倪图强、连增迪
23	化学气相沉积设备	实用新型	授权	CN202423319091.3	2024-12-31	CN223780363U	2026-01-09	朱泉松、庄宇峰、吕术亮、李远
24	一种晶圆承载组件及半导体处理设备	实用新型	授权	CN202423320135.4	2024-12-31	CN223899675U	2026-02-10	陈星棋
25	一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411969617.4	2024-12-30	CN119382671B	2025-09-12	徐志鹏、常健、王亚军
26	一种用于气柜可燃性测试的系统及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411980652.6	2024-12-30	CN119375415A	2025-01-28	王治平、宋飘、宋常征、权汉钊
27	一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411969617.4	2024-12-30	CN119382671B	2025-09-12	徐志鹏、常健、王亚军
28	一种半导体工艺平台	实用新型	授权	CN202423296470.5	2024-12-30	CN223660196U	2025-12-12	陶珩、何伟业、许灿、王能语、杨闰清、吴红星、廖腊财、桑成松、刘学滨、陈冬、刘青、刘雯伊
29	一种半导体处理设备及其固态前驱体输送系统和输送方法	发明专利	授权、实质审查的生效、实质审查的生效、公布	CN202411947571.6	2024-12-26	CN119372628B	2025-03-18	庄宇峰、朱泉松、李远、孙家鑫
30	一种用于半导体处理设备的气体输送装置和气体通路模块	实用新型	授权	CN202423230256.X	2024-12-25	CN223524974U	2025-11-07	姜学斌、彭建录、梁冬冬、周楚秦、张嘉赫
31	晶圆托盘	外观专利	授权	CN202430820667.0	2024-12-24	CN309541504S	2025-10-14	汪国元、代宇通、姜勇
32	晶圆托盘	外观专利	授权	CN202430817296.0	2024-12-23	CN309541503S	2025-10-14	汪国元、代宇通、姜勇
33	一种沉积金属氮化物的方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411897577.7	2024-12-20	CN120193249A	2025-06-24	沈成绪、许灿、高烨、陈宇畅、刘鹏杰、杨闰清
34	气体喷淋头、喷淋头组件以及化学气相沉积装置	实用新型	授权	CN202423152151.7	2024-12-19	CN223780356U	2026-01-09	陈佳波、徐立、吴红星、吕术亮、李雪子
35	等离子体处理设备	实用新型	授权	CN202423135658.1	2024-12-18	CN223665407U	2025-12-12	王许、朱永成、李琳、王智昊
36	机械臂及半导体设备零件的洁净度原位检测系统	实用新型	授权	CN202423135638.4	2024-12-18	CN223657031U	2025-12-12	孙祥、刘若晨
37	一种半导体处理设备及其多区加热板和多区温控驱动方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411825844.X	2024-12-11	CN119835809A	2025-04-15	张辉、姜银鑫、杜冰洁
38	一种气路加热模组	实用新型	授权	CN202422993593.8	2024-12-04	CN223528230U	2025-11-07	毛绪光、吴红星、李远
39	一种真空平台	实用新型	授权	CN202422993652.1	2024-12-04	CN223535207U	2025-11-11	刘雯伊、王能语、刘学滨
40	锁扣组件和反应腔	实用新型	授权	CN202422980570.3	2024-12-03	CN223535206U	2025-11-11	黄稳、姜勇
41	流量校准仪	外观专利	授权	CN202430745159.0	2024-11-25	CN309427817S	2025-08-08	段国安、连增迪、钟水苗、徐扬、倪图强
42	等离子体处理装置	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411668534.1	2024-11-20	CN119170474B	2025-02-14	张一川、田宁、叶如彬
43	下电极组件及等离子体处理设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411660380.1	2024-11-19	CN119170554B	2025-07-08	田宁、叶如彬
44	下电极组件及等离子体处理设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411660380.1	2024-11-19	CN119170554B	2025-07-08	田宁、叶如彬
45	半导体处理设备及其直流电压信号控制系统	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411629639.6	2024-11-14	CN119182310B	2025-09-16	倪图强、卢明、李博睿
46	半导体处理设备及其直流电压信号控制系统	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411629639.6	2024-11-14	CN119182310B	2025-09-16	倪图强、卢明、李博睿
47	一种集成式匹配器系统及半导体处理装置	实用新型	授权	CN202422709197.8	2024-11-06	CN223527122U	2025-11-07	范宏宇、李宝琛
48	防止下电极组件发生电弧放电的方法及等离子体处理设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202411561997.8	2024-11-04	CN119069332B	2025-03-04	田宁、叶如彬、刘志强
49	气体分配盒及气相沉积设备	实用新型	授权	CN202422687373.2	2024-11-04	CN223433539U	2025-10-14	张海龙、胡玲钢、莱纳德·刘、王璐瑛
50	一种清洁半导体零部件的装置及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411474501.3	2024-10-21	CN119426243A	2025-02-14	梁重时、丛海、朱俊麒

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