盛美上海申请芯片堆叠处理相关专利，该方法和装置可有效干燥芯片堆叠结构_财经一览

盛美上海申请芯片堆叠处理相关专利，该方法和装置可有效干燥芯片堆叠结构

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2026-03-07 09:24:18

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3月7日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“芯片堆叠结构处理方法和装置”的专利。申请公布号为CN121620283A，申请号为CN202411141948.9，申请公布日期为2026年3月6日，申请日期为2024年8月19日，发明人吴勐、贾照伟、王坚、王晖，专利代理机构上海专利商标事务所有限公司，专利代理师骆希聪，分类号H10W95/00、H10P95/90、H10P72/00。

专利摘要显示，本申请的实施例提供了一种芯片堆叠结构处理方法和装置，包括将芯片堆叠结构放置在处理腔中；对处理腔抽气使处理腔内的压力达到第一负压值；在第一时间内保持处理腔内压力低于第一负压值，以使芯片堆叠结构中的水分蒸发成水汽；在第二时间内持续向处理腔内通入干燥流体以干燥水汽，第二时间大于第一时间。本申请的芯片堆叠结构处理方法和装置能够有效干燥芯片堆叠结构。

天眼查数据显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2005年5月17日，法定代表人HUI WANG，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本48016.4789万人民币，实缴资本37264.99万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目174次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息675条，拥有行政许可31个。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号	专利名称	专利类型	法律状态	申请号	申请日期	公开(公告)号	公开(公告)日期	发明人
1	基片湿法处理装置及基片处理设备	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511696240.4	2025-11-19	CN121149062A	2025-12-16	李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
2	一种传感器校准装置及基板清洗机	发明专利	公布	CN202511565215.2	2025-10-30	CN121540106A	2026-02-17	陈远、赵运翔、何西登
3	基板处理装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511376375.2	2025-09-25	CN120878605A	2025-10-31	苏政、贾社娜、邓新平
4	处理液供给机构及涂覆装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202511292109.1	2025-09-11	CN120790418A	2025-10-17	程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
5	供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质	发明专利	授权	CN202511292108.7	2025-09-11	CN120767230B	2026-01-27	苏政、贾社娜、李彬、邓新平
6	排气用防腐组件及炉管设备	发明专利	授权	CN202511100391.9	2025-08-07	CN120591755B	2025-12-12	段航、周冬成
7	单片晶圆干燥设备及干燥方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202510873904.3	2025-06-27	CN120403215A	2025-08-01	谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
8	薄膜沉积装置及薄膜沉积方法	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510874680.8	2025-06-27	CN120366747B	2025-09-23	戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
9	基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备	发明专利	授权、公布	CN202510780743.3	2025-06-12	CN120319704B	2025-10-17	许创威、贾社娜、张大海
10	密封件	外观专利	授权	CN202530280752.7	2025-05-19	CN309744402S	2026-01-23	付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
11	双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510594876.1	2025-05-09	CN120127033B	2025-08-15	谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
12	晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510526003.7	2025-04-25	CN120072715B	2025-07-25	王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
13	化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510432151.2	2025-04-08	CN119934438B	2025-08-08	陶泽魏、胡海波、张晓燕
14	化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510432151.2	2025-04-08	CN119934438B	2025-08-08	陶泽魏、胡海波、张晓燕
15	炉管设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510312070.9	2025-03-17	CN119824390B	2025-07-11	杨扬、贾社娜、张大海
16	炉管设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510312070.9	2025-03-17	CN119824390B	2025-07-11	杨扬、贾社娜、张大海
17	进气管及炉管设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510295477.5	2025-03-13	CN119800332B	2025-07-04	蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
18	进气管及炉管设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510295477.5	2025-03-13	CN119800332B	2025-07-04	蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
19	基板处理设备及方法	发明专利	实质审查的生效、实质审查的生效、公布	CN202510114602.8	2025-01-23	CN120143565A	2025-06-13	徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
20	晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510066274.9	2025-01-16	CN119480619B	2025-04-25	戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
21	晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备	发明专利	授权、实质审查的生效、公布	CN202510066274.9	2025-01-16	CN119480619B	2025-04-25	戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
22	基板处理装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411383228.3	2024-09-29	CN120033106A	2025-05-23	王晖、陶晓峰、黄天宇、韩阳、何西登、贾社娜、刘文博、张晓燕、胡海波、刘阳、吴杨
23	用于方形基板的卡盘	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202411358048.X	2024-09-26	CN121192044A	2025-12-23	王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
24	支撑装置及基板退火设备	发明专利	授权	CN202411351739.7	2024-09-25	CN119920747B	2025-11-14	顾昱、王玉玺、杨宏超、王晖、王坚
25	清洗装置及电镀装置	发明专利	公布	CN202411140793.7	2024-08-19	CN121593146A	2026-03-03	杨宏超、花宇、王坚、王晖
26	芯片堆叠结构处理方法和装置	发明专利	公布	CN202411141948.9	2024-08-19	CN121620283A	2026-03-06	吴勐、贾照伟、王坚、王晖
27	一种处理液供给装置	发明专利	公布	CN202411128720.6	2024-08-15	CN121620116A	2026-03-06	仲召明、赵前、刘鑫、陈中强
28	管路拆装工装	发明专利	授权	CN202411028309.1	2024-07-29	CN119927842B	2025-12-19	杨超繁、贾社娜、张大海
29	炉管设备	发明专利	公布	CN202411027169.6	2024-07-29	CN121442982A	2026-01-30	刘满成、刘权、孙旭海
30	排液装置及基板处理设备	发明专利	公布	CN202411028300.0	2024-07-29	CN121432816A	2026-01-30	徐飞、吴均、隋涛、程成、王晖、李康植
31	工艺管及炉管设备	发明专利	公布	CN202411003481.1	2024-07-24	CN121409008A	2026-01-27	王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
32	基板热处理装置、热处理方法及涂覆显影设备	发明专利	公布	CN202411002929.8	2024-07-24	CN121419569A	2026-01-27	吴均、徐飞、那洪亮、王晖、李康植
33	凸块电镀方法	发明专利	公布	CN202410980780.4	2024-07-19	CN121363025A	2026-01-20	王坚、王晖、贾照伟、陆陈华、代兰奎
34	基板处理装置及基板处理方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410914104.7	2024-07-08	CN121310877A	2026-01-09	王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华、贾照伟
35	半导体冷却装置及半导体湿法刻蚀系统	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410861050.2	2024-06-28	CN121230359A	2025-12-30	练长均、高耀栋、宋成亮、刘鼎新、何西登、谢潮东、方毅敏
36	一种组分分离装置、液体回收设备及方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410867969.2	2024-06-28	CN121222097A	2025-12-30	魏雄飞、石宁、王文军、张晓燕、邓新平
37	电镀装置及电镀方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410865294.8	2024-06-28	CN121228330A	2025-12-30	吴勐、肖炎、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖
38	基板处理方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410856154.4	2024-06-27	CN121228332A	2025-12-30	王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、刁建华、肖炎、吴勐
39	刷子组件和半导体清洗设备	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410856136.6	2024-06-27	CN121222715A	2025-12-30	孙建、朱国辉、王晖
40	清洁系统及退火装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410854337.2	2024-06-27	CN121222752A	2025-12-30	刘林波、余齐兴、金一诺、司生辉、宋永灏、王玉玺
41	基板边缘刻蚀装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410854349.5	2024-06-27	CN121237674A	2025-12-30	顾争荣、初振明、王东东、张晓燕、贾福金、向阳
42	电镀装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410852582.X	2024-06-27	CN121228324A	2025-12-30	花宇、杨宏超、金一诺、王坚、王晖
43	加热装置及基板处理设备	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410852574.5	2024-06-27	CN121237673A	2025-12-30	王晖、贾社娜、苏政、路添竣、陶泽魏、季昆、邓新平
44	基板定位装置及基板定位方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410843707.2	2024-06-26	CN121215586A	2025-12-26	王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
45	化学气相沉积方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410844357.1	2024-06-26	CN121204634A	2025-12-26	孙旭海、刘满成
46	高温炉管的密封结构及密封方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410825152.9	2024-06-24	CN119845044A	2025-04-18	吕策、张大海、王晖、沈周燮
47	边缘刻蚀位置的控制方法及装置	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410825019.3	2024-06-24	CN121215519A	2025-12-26	庞博、肖登、初振明、张晓燕、王晖
48	边缘清洗装置及边缘清洗方法	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410816709.2	2024-06-21	CN120237044A	2025-07-01	王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
49	用于方形基板的卡盘	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410816350.9	2024-06-21	CN121192043A	2025-12-23	王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
50	用于电镀设备的检测方法及检测系统	发明专利	实质审查的生效、公布	CN202410782849.2	2024-06-17	CN121155061A	2025-12-19	石轶、左经之、任正博、王晖、金一诺

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