6月13日消息,国家知识产权局信息显示,江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种薄膜沉积设备及沉积方法”的专利,授权公告号CN118910582B,授权公告日为2026年6月12日。申请公布号为CN118910582A,申请号为CN202410977147.X,申请公布日期为2026年6月12日,申请日期为2024年7月19日,发明人杜晓禹、王新征、许所昌、苏晓华、龚炳建,专利代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙),专利代理师石惠,分类号C23C16/455、C23C16/44、C23C16/40。
专利摘要显示,本发明公开了一种薄膜沉积设备及沉积方法,涉及半导体技术领域。该薄膜沉积设备包括ALD主体、铪源过滤器及铪源管路,铪源过滤器的两端与ALD主体及铪源管路分别连接;ALD主体具有沉积腔室,铪源管路通过铪源过滤器与沉积腔室连通,铪源管路用于将四氯化铪气体通入沉积腔室,铪源过滤器用于过滤四氯化铪气体中的四氯化铪颗粒。本发明提供的薄膜沉积设备能够显著提升二氧化铪薄膜的沉积品质。
微导纳米成立于2015年12月25日,于2022年12月23日在上海证券交易所上市,注册及办公地址均为江苏省无锡市。该公司是国内领先的高端薄膜沉积设备制造商,核心产品为ALD设备,技术实力强,产品广泛应用于多个领域。
微导纳米以ALD技术为核心,专注于先进微、纳米级薄膜沉积技术和设备的研究与产业化应用,为光伏、集成电路等半导体与泛半导体行业提供高端装备与技术解决方案,所属申万行业为电力设备-光伏设备-光伏加工设备,涉及半导体设备、专精特新、OLED等概念板块。
2025年,微导纳米实现营业收入26.33亿元,在行业12家公司中排名第9,远低于行业第一名捷佳伟创的154.72亿元和第二名晶盛机电的113.57亿元,也低于行业平均数56.11亿元和中位数45.56亿元。其主营业务中,光伏设备收入15.91亿元,占比60.43%;半导体设备收入8.81亿元,占比33.45%。当期净利润2.19亿元,行业排名第7,同样远低于第一名捷佳伟创的26.18亿元和第二名晶盛机电的8.59亿元,低于行业平均数5.17亿元和中位数2.96亿元。
江苏微导纳米科技股份有限公司近期专利情况如下:
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种成膜设备、成膜设备的进气装置及成膜设备的喷淋板 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610492020.8 | 2026-04-15 | CN122013155A | 2026-05-12 | 杨世蒙、宋广华、尤宇文 |
| 2 | 功能层、钙钛矿太阳能电池及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610426169.6 | 2026-04-02 | CN121968868A | 2026-05-01 | 隋玉洁、王娟、姚俊、闻佳、袁红霞、李翔 |
| 3 | 一种激光加工系统以及激光指向性偏移的补偿方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610377175.7 | 2026-03-25 | CN122125355A | 2026-06-02 | 朱涵 |
| 4 | 进气装置和反应设备 | 发明专利 | 公布 | CN202610312792.9 | 2026-03-12 | CN122105370A | 2026-05-29 | 柴智、赵学 |
| 5 | 一种基片上下料机构、基片上下料方法、装置和介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610255303.0 | 2026-03-03 | CN122121607A | 2026-05-29 | 严大、汤宋波 |
| 6 | 一种硅片取放机构及导片系统 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610214766.2 | 2026-02-13 | CN122028688A | 2026-05-12 | 杨世蒙、李海生、宋广华 |
| 7 | 用于半导体薄膜处理设备的配气组件和半导体薄膜处理设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610214730.4 | 2026-02-13 | CN122013152A | 2026-05-12 | 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超 |
| 8 | 半导体薄膜处理设备和半导体薄膜沉积方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610214783.6 | 2026-02-13 | CN122013153A | 2026-05-12 | 智顺华、衡德正、徐康、阮昊、王国超 |
| 9 | 半导体薄膜处理设备和半导体薄膜处理方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610214804.4 | 2026-02-13 | CN122128689A | 2026-06-02 | 智顺华、衡德正、王国超、徐康、阮昊 |
| 10 | 用于半导体薄膜处理设备的配气组件、半导体薄膜处理设备及其处理方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610214736.1 | 2026-02-13 | CN122147285A | 2026-06-05 | 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超 |
| 11 | 一种载片舟流转设备、基片处理系统和载片舟流转方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610163864.8 | 2026-02-04 | CN121985771A | 2026-05-05 | 严大、汤宋波 |
| 12 | 一种喷淋装置及沉积镀膜设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610131881.3 | 2026-01-29 | CN121915386A | 2026-04-24 | 施述鹏、廖宝臣 |
| 13 | 载具、镀膜设备及其控制方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610076563.1 | 2026-01-20 | CN121610764A | 2026-03-06 | 李挺、余乐怡 |
| 14 | 喷淋机构及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202512059928.8 | 2025-12-31 | CN121593033A | 2026-03-03 | 李宏岩、张鹤、赵昂璧 |
| 15 | 喷淋机构及其检测系统 | 发明专利 | 公布 | CN202512059363.3 | 2025-12-31 | CN121629365A | 2026-03-10 | 贾松霖、张鹤、李宏岩、左敏 |
| 16 | 半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511999077.9 | 2025-12-26 | CN121793662A | 2026-04-03 | 李翔、王娟、江诗聪、袁红霞、姚俊、李鹏、杨蕾 |
| 17 | 防污染角阀、角阀改造方法及沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511983364.0 | 2025-12-25 | CN121737683A | 2026-03-27 | 毛文瑞、荒见淳一、赵婷婷 |
| 18 | 一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511942447.5 | 2025-12-22 | CN121826658A | 2026-04-10 | 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超 |
| 19 | 加热盘机构及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511948067.2 | 2025-12-22 | CN121826668A | 2026-04-10 | 许允昕、周芸福、王宗林 |
| 20 | 一种抽气组件和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511935884.4 | 2025-12-19 | CN121781271A | 2026-04-03 | 常晓娜、王天宇、安超、叶长松、张晶、刘松涛、王国超 |
| 21 | 一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511935874.0 | 2025-12-19 | CN121781109A | 2026-04-03 | 叶长松、常晓娜、张晶、刘松涛、王天宇、安超 |
| 22 | 半导体加热盘的装配方法和半导体工艺腔室 | 发明专利 | 公布 | CN202511923577.4 | 2025-12-18 | CN121653612A | 2026-03-13 | 周瑞、周芸福 |
| 23 | 反应装置、半导体薄膜沉积方法和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511922972.0 | 2025-12-18 | CN121653610A | 2026-03-13 | 安超、王天宇、王炫罡 |
| 24 | 反应腔室及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511923368.X | 2025-12-18 | CN121674937A | 2026-03-17 | 周芸福、黎微明、周瑞、王国超、王晴 |
| 25 | 支撑机构、反应装置和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511923203.2 | 2025-12-18 | CN121843456A | 2026-04-10 | 李森、常晓娜、叶长松、张晶、刘松涛 |
| 26 | 一种顶针结构、升降机构及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511923315.8 | 2025-12-18 | CN121843483A | 2026-04-10 | 王新征、侯永刚 |
| 27 | 承载支架和晶圆处理装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511923339.3 | 2025-12-18 | CN121865892A | 2026-04-14 | 周峰、柴智、石帅、张义明 |
| 28 | 气路装置、气路控制方法、反应装置及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511923451.7 | 2025-12-18 | CN121854755A | 2026-04-14 | 张棋凯、龚炳建 |
| 29 | 薄膜晶体管及薄膜晶体管沟道层的制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511912959.7 | 2025-12-17 | CN121865666A | 2026-04-14 | 李向远、许所昌 |
| 30 | 管路系统、管路控制方法及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902157.8 | 2025-12-16 | CN121826650A | 2026-04-10 | 邹天顺、龚炳建 |
| 31 | 反应装置、进气通道吹扫方法和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902518.9 | 2025-12-16 | CN121826655A | 2026-04-10 | 邹天顺、龚炳建 |
| 32 | 测试装置、测试方法及升降机构 | 发明专利 | 公布 | CN202511902280.X | 2025-12-16 | CN121829901A | 2026-04-10 | 陈鹏、周芸福 |
| 33 | 一种抽气构件和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902553.0 | 2025-12-16 | CN121826645A | 2026-04-10 | 常晓娜、王天宇、安超、叶长松、张晶、刘松涛 |
| 34 | ALD薄膜沉积方法及装置和ALD薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902512.1 | 2025-12-16 | CN121826654A | 2026-04-10 | 许所昌、李向远 |
| 35 | ALD薄膜沉积方法及装置和ALD薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902620.9 | 2025-12-16 | CN121826657A | 2026-04-10 | 许所昌、李向远 |
| 36 | 进气结构、反应装置和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902544.1 | 2025-12-16 | CN121826656A | 2026-04-10 | 刘松涛、常晓娜、张晶、叶长松、李森 |
| 37 | 支撑装置及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902345.0 | 2025-12-16 | CN121826663A | 2026-04-10 | 周芸福、王国超、王卓、游巧 |
| 38 | 管路系统及薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511902165.2 | 2025-12-16 | CN121820270A | 2026-04-10 | 邹天顺、龚炳建 |
| 39 | 一种工艺腔体的盖板传送装置和半导体薄膜沉积设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511881677.5 | 2025-12-12 | CN121826653A | 2026-04-10 | 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超 |
| 40 | 薄膜沉积设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511869929.2 | 2025-12-11 | CN121295147A | 2026-01-09 | 许允昕、周芸福 |
| 41 | 加热系统、半导体设备和加热方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511862984.9 | 2025-12-10 | CN121430206A | 2026-01-30 | 周瑞、周芸福、龚炳建 |
| 42 | 检测设备及基片状态的检测方法 | 发明专利 | 公布 | CN202511850870.2 | 2025-12-09 | CN121646334A | 2026-03-10 | 王新征、陈鹏 |
| 43 | 金属粉末及其制备方法和应用 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511841229.2 | 2025-12-08 | CN121755701A | 2026-03-31 | 李翔、王娟、袁红霞、糜珂 |
| 44 | 一种基片载具及基片处理设备 | 发明专利 | 公布 | CN202511823477.4 | 2025-12-04 | CN121646312A | 2026-03-10 | 陶志豪、周芸福、许允昕 |
| 45 | 一种基片载具 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511810588.1 | 2025-12-03 | CN121620138A | 2026-03-06 | 许允昕、王宗林、周芸福 |
| 46 | 保护磁流体的主轴结构 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511630974.2 | 2025-11-07 | CN121111992A | 2025-12-12 | 周芸福、许允昕 |
| 47 | 一种c轴取向晶体IGZO薄膜的制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511500786.8 | 2025-10-20 | CN121320911A | 2026-01-13 | 李向远、许所昌 |
| 48 | 用于臭氧气体输送系统的预处理方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511501179.3 | 2025-10-20 | CN121320912A | 2026-01-13 | 高力、朱金成、张义明 |
| 49 | 一种半导体加工设备及其进气单元 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511416242.3 | 2025-09-29 | CN121161261A | 2025-12-19 | 王天宇、安超、龚炳建、赵婷婷 |
| 50 | 一种用于交叉流的半导体处理设备及其应用 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202511415651.1 | 2025-09-29 | CN121320910A | 2026-01-13 | 周芸福、黎微明、皮代波、王国超、赵婷婷、许所昌 |
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