3月29日消息,国家知识产权局信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“半导体器件和半导体器件的制造方法”的专利,授权公告号CN121310585B,授权公告日为2026年3月27日。申请公布号为CN121310585A,申请号为CN202511861936.8,申请公布日期为2026年3月27日,申请日期为2025年12月11日,发明人王文智,专利代理机构北京维昊知识产权代理事务所(普通合伙),专利代理师陈姗姗,分类号H10D30/60、H10D30/01、H10D62/17。
专利摘要显示,本申请提供一种半导体器件和半导体器件的制造方法。该半导体器件包括:半导体衬底、源极、漏极和栅极;半导体衬底中设有与源极对应的源区和与漏极对应的漏区,源区和漏区之间设有沟道区;栅极设置在沟道区之上;沟道区与栅极的连接位置中设有阶梯功函数层,阶梯功函数层包含第一功函数层、第二功函数层和第三功函数层,其中第二功函数层分别与第一功函数层的末端和第三功函数层的首端连接,且第二功函数层与第一功函数层和第三功函数层的功函数大小不一致;第一功函数层的表面高度高于源区的表面高度,第三功函数层的表面高度高于漏区的表面高度。利用本申请技术方案,能够提升栅极对沟道区域的控制能力,提升半导体器件的电学性能。
晶合集成于2015年5月19日成立,2023年5月5日在上海证券交易所上市,注册地址和办公地址均涉及安徽省合肥市。该公司是国内重要的晶圆代工厂,专注12英寸晶圆代工,具备先进工艺和规模量产优势。
晶合集成所属申万行业为电子 - 半导体 - 集成电路制造,涉及安徽国资、大盘均衡、TMT等概念板块。公司主要从事12英寸晶圆代工业务,研发应用先进工艺,为客户提供多制程、多平台的晶圆代工服务。
2025年,晶合集成营业收入达108.85亿元,在行业4家公司中排名第3,与第一名中芯国际673.23亿元、第二名华虹公司172.91亿元有差距,低于行业平均数240.81亿元和中位数140.88亿元。主营业务中,集成电路营收103.88亿元,占比95.43%,其他(补充)占4.97亿元,占比4.57%。净利润方面,2025年为4.66亿元,行业排名同样第3,与第一名中芯国际72.09亿元、第二名赛微电子13.88亿元相比差距较大,低于行业平均数20.64亿元和中位数9.27亿元。
合肥晶合集成电路股份有限公司近期专利情况如下:
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610245463.7 | 2026-03-02 | CN121752050A | 2026-03-27 | 陈杨、张惠慧、刘然 |
| 2 | 半导体测试结构及测试方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610243473.7 | 2026-03-02 | CN121741434A | 2026-03-27 | 桑华煜、程洋、汪华 |
| 3 | 一种半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610243328.9 | 2026-03-02 | CN121752034A | 2026-03-27 | 祝君龙、刘哲儒 |
| 4 | 一种半导体结构的制备方法和半导体结构 | 发明专利 | 公布 | CN202610230677.7 | 2026-02-27 | CN121729066A | 2026-03-24 | 盛云、高志杰、蔡宗佐、高佑琳 |
| 5 | 半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610226083.9 | 2026-02-26 | CN121728821A | 2026-03-24 | 刘苏涛、林士闵 |
| 6 | 半导体器件及其制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610227349.1 | 2026-02-26 | CN121752041A | 2026-03-27 | 查鸿凯、程挚 |
| 7 | 自对准阻挡结构的形成方法及半导体结构 | 发明专利 | 公布 | CN202610214878.8 | 2026-02-14 | CN121712261A | 2026-03-20 | 赵西连、李婷、蒋倩文 |
| 8 | 一种结型场效应管及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610209966.9 | 2026-02-13 | CN121712070A | 2026-03-20 | 刘凯、北口裕久 |
| 9 | 布线方法、装置、存储介质及芯片 | 发明专利 | 公布 | CN202610210041.6 | 2026-02-13 | CN121706718A | 2026-03-20 | 陈星、郭军 |
| 10 | 掩膜图案的生成方法、掩膜、半导体结构及其制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610212003.4 | 2026-02-13 | CN121742116A | 2026-03-27 | 陶思友、巫振伟、汪雪春 |
| 11 | 表单生成方法、表单生成系统、存储介质及程序产品 | 发明专利 | 公布 | CN202610203763.9 | 2026-02-12 | CN121680850A | 2026-03-17 | 杨昆、崔洁、陈云、许紫璇 |
| 12 | 一种抑制CIS暗电流的方法及CIS | 发明专利 | 公布 | CN202610204137.1 | 2026-02-12 | CN121692822A | 2026-03-17 | 陈铜、冯文辉 |
| 13 | MOSFET电流模拟模型的构建、模拟方法及相关装置 | 发明专利 | 公布 | CN202610195676.3 | 2026-02-11 | CN121683668A | 2026-03-17 | 姚子凤、柯天麒、张立涛 |
| 14 | 半导体器件的参数校准方法和制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610197892.1 | 2026-02-11 | CN121683692A | 2026-03-17 | 王磊、邓少鹏、汪文婷、刘波、魏港澳 |
| 15 | 方块电阻预测模型训练方法及方块电阻预测方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610200279.0 | 2026-02-11 | CN121724086A | 2026-03-24 | 许可、陈健、邱茹蒙、秦绪威、黄奕泉、刘哲儒 |
| 16 | 一种半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610181967.7 | 2026-02-09 | CN121665627A | 2026-03-13 | 刘洋、李琦琦 |
| 17 | 高雷击浪涌耐量的超高压结型场效应管器件及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610182773.9 | 2026-02-09 | CN121692729A | 2026-03-17 | 刘凯、北口裕久、王维安、程洋 |
| 18 | 一种键合结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610180499.1 | 2026-02-09 | CN121693222A | 2026-03-17 | 崔立加、余义祥、徐华超、王梦晴 |
| 19 | MOSFET漏电流模拟模型的构建、模拟方法及设备 | 发明专利 | 公布 | CN202610170035.2 | 2026-02-06 | CN121659880A | 2026-03-13 | 张立涛、方昕、张雅琳 |
| 20 | 半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610164443.7 | 2026-02-05 | CN121665622A | 2026-03-13 | 刘洋、刘哲儒、李琦琦、李婷、马梦辉 |
| 21 | 半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610164440.3 | 2026-02-05 | CN121665621A | 2026-03-13 | 刘洋、刘哲儒、李琦琦、李婷、马梦辉 |
| 22 | 掩模板、图形形成方法及半导体器件的制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610149919.X | 2026-02-03 | CN121634685A | 2026-03-10 | 桑华煜、汪华、程洋、代海坡 |
| 23 | 一种半导体器件的制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610140150.5 | 2026-02-02 | CN121619943A | 2026-03-06 | 王奎旭、胡薇、沈磊、高志杰、李涛 |
| 24 | 一种掩模版的版图获取方法及系统 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610140395.8 | 2026-02-02 | CN121613673A | 2026-03-06 | 刘秀梅、罗招龙 |
| 25 | 寄生MIM电容及其制备方法、图像传感器 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610142878.1 | 2026-02-02 | CN121619876A | 2026-03-06 | 蔡承佑、丁美平、陆莹莹、宋伟政、石伟 |
| 26 | 半导体器件及其制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610142832.X | 2026-02-02 | CN121619891A | 2026-03-06 | 李亮、高珊、张劲 |
| 27 | 一种半导体结构及其制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610132362.9 | 2026-01-30 | CN121604535A | 2026-03-03 | 张振、刘哲儒、林豫立 |
| 28 | 一种半导体器件阈值电压控制方法、系统、设备及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610130109.X | 2026-01-30 | CN121604493A | 2026-03-03 | 朱丁盛、胡琪、秦绪威 |
| 29 | 集成电路的电阻检查方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610129702.2 | 2026-01-30 | CN121615587A | 2026-03-06 | 陈星 |
| 30 | 一种半导体结构的制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610122489.2 | 2026-01-29 | CN121586286A | 2026-02-27 | 李飞、董宗谕 |
| 31 | 半导体测试结构及保护MOS管的选取方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610122111.2 | 2026-01-29 | CN121595927A | 2026-03-03 | 张立涛、方昕、姚子凤、郑启涛 |
| 32 | 一种图像传感器及其制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610113824.2 | 2026-01-28 | CN121586309A | 2026-02-27 | 刘琦、张昭、宋明明 |
| 33 | 场板介质层及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610117002.1 | 2026-01-28 | CN121619923A | 2026-03-06 | 刘申婷、程洋 |
| 34 | 一种图像传感器及其制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610098801.9 | 2026-01-26 | CN121586305A | 2026-02-27 | 郇小伟、蔡承佑 |
| 35 | 一种半导体器件及制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610092810.7 | 2026-01-23 | CN121559810A | 2026-02-24 | 葛展志、杨昱霖、刘梅真、许超、吴昊 |
| 36 | 一种半导体器件及制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610092816.4 | 2026-01-23 | CN121559811A | 2026-02-24 | 葛展志、杨昱霖、刘梅真、许超、吴昊 |
| 37 | 环绕式栅极晶体管及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610091098.9 | 2026-01-23 | CN121568400A | 2026-02-24 | 刘洋、马梦辉、李琦琦、李婷、祝君龙 |
| 38 | LDMOS结构及LDMOS结构的制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610090393.2 | 2026-01-23 | CN121586277A | 2026-02-27 | 胡赵磊、王梦慧 |
| 39 | 浅沟槽隔离结构及其制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610086885.4 | 2026-01-22 | CN121548288A | 2026-02-17 | 汪明星、李阳阳、高志杰、杨杰 |
| 40 | 半导体测试结构及其测试方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610083592.0 | 2026-01-22 | CN121568560A | 2026-02-24 | 毛辰辰、王仲盛、董琳、姜攀 |
| 41 | 一种半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610083937.2 | 2026-01-22 | CN121568429A | 2026-02-24 | 金鑫、葛成海、熊鹏宇、林滔天 |
| 42 | 半导体器件及其制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610083772.9 | 2026-01-22 | CN121586284A | 2026-02-27 | 汪明星、高志杰、李阳阳、杨杰 |
| 43 | 一种制造双浅沟道隔离的方法以及半导体结构 | 发明专利 | 授权 | CN202610088108.3 | 2026-01-22 | CN121568565B | 2026-03-24 | 朱海龙、罗承先、李嘉伦 |
| 44 | 静电放电保护器件及芯片 | 发明专利 | 授权 | CN202610083935.3 | 2026-01-22 | CN121568436B | 2026-03-24 | 朱晓萌、鲍贤贤 |
| 45 | 机台传感器分级方法和基于传感器数据的机台管控方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610069832.1 | 2026-01-20 | CN121542897A | 2026-02-17 | 王思民、孙姗姗、谭柳娟、徐东东 |
| 46 | 半导体器件的制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610070340.4 | 2026-01-20 | CN121548071A | 2026-02-17 | 孙铖、何守俊、武少杰、吴则贤、张启明 |
| 47 | 半导体结构及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610069536.1 | 2026-01-20 | CN121548100A | 2026-02-17 | 崔立加、余义祥 |
| 48 | 半导体结构及其制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610073113.7 | 2026-01-20 | CN121548096A | 2026-02-17 | 郭哲劭、赵丽娟、郭廷晃 |
| 49 | 半导体结构、半导体结构的制造方法及图像传感器 | 发明专利 | 公布 | CN202610064029.9 | 2026-01-19 | CN121548127A | 2026-02-17 | 陈维邦 |
| 50 | 一种用于硅片表面刻蚀的光照装置、使用方法及刻蚀系统 | 发明专利 | 公布 | CN202610063657.5 | 2026-01-19 | CN121548237A | 2026-02-17 | 沈娅、杨昱霖、许超、陈月月 |
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